Komponentų apdirbimo tikslumas
Didelės Q vertės filtrams komponentų apdirbime reikalingas itin didelis tikslumas. Net ir nedideli dydžio, formos ar padėties nukrypimai gali smarkiai paveikti filtro veikimą ir Q koeficientą. Pavyzdžiui, ertmės filtruose ertmės matmenys ir paviršiaus šiurkštumas tiesiogiai veikia Q koeficientą. Norint pasiekti aukštą Q koeficientą, komponentai turi būti apdirbami labai tiksliai, o tam dažnai reikia pažangių gamybos technologijų, tokių kaip tikslus CNC apdirbimas arba lazerinis pjovimas. Siekiant pagerinti komponentų tikslumą ir pakartojamumą, taip pat naudojamos adityviosios gamybos technologijos, tokios kaip selektyvus lazerinis lydymas.

Medžiagų parinkimas ir kokybės kontrolė
Didelio Q koeficiento filtrų medžiagų parinkimas yra labai svarbus. Siekiant sumažinti energijos nuostolius ir užtikrinti stabilų veikimą, reikalingos medžiagos, pasižyminčios mažais nuostoliais ir dideliu stabilumu. Įprastos medžiagos yra labai gryni metalai (pvz., varis, aliuminis) ir mažai nuostolių turintys dielektrikai (pvz., aliuminio oksido keramika). Tačiau šios medžiagos dažnai yra brangios ir sudėtingai apdorojamos. Be to, medžiagų pasirinkimo ir apdorojimo metu būtina griežta kokybės kontrolė, siekiant užtikrinti medžiagų savybių nuoseklumą. Bet kokios medžiagų priemaišos ar defektai gali lemti energijos nuostolius ir sumažinti Q koeficientą.

Surinkimo ir derinimo tikslumas
Surinkimo procesasaukštos kokybės filtraituri būti labai tikslūs. Komponentai turi būti tiksliai išdėstyti ir surinkti, kad būtų išvengta nesuderinamumo ar tarpų, kurie galėtų pabloginti filtro veikimą. Derinamiems didelės Q vertės filtrams derinimo mechanizmų integravimas su filtro ertme kelia papildomų iššūkių. Pavyzdžiui, dielektriniuose rezonatoriaus filtruose su MEMS derinimo mechanizmais MEMS pavarų dydis yra daug mažesnis nei rezonatoriaus. Jei rezonatorius ir MEMS pavaros gaminami atskirai, surinkimo procesas tampa sudėtingas ir brangus, o nedideli nesuderinamumai gali turėti įtakos filtro derinimo veikimui.

Pasiekti pastovų pralaidumą ir suderinamumą
Sukurti aukštą Q koeficientą turintį reguliuojamąjį filtrą su pastoviu pralaidumu yra sudėtinga. Norint išlaikyti pastovų pralaidumą derinimo metu, išoriškai apkrautas Qe turi kisti tiesiogiai priklausomai nuo centrinio dažnio, o tarprezonatorių sąsajos turi kisti atvirkščiai proporcingai centriniam dažniui. Dauguma literatūroje aprašytų reguliuojamųjų filtrų pasižymi našumo blogėjimu ir pralaidumo svyravimais. Projektuojant pastovaus pralaidumo reguliuojamuosius filtrus, naudojami tokie metodai kaip subalansuotos elektrinės ir magnetinės sąsajos, tačiau praktiškai tai pasiekti sunku. Pavyzdžiui, pranešama, kad reguliuojamasis TE113 dviejų režimų rezonatorius pasiekia aukštą Q koeficientą – 3000 visame savo derinimo diapazone, tačiau jo pralaidumo svyravimai mažame derinimo diapazone vis tiek siekė ±3,1 %.

Gamybos defektai ir didelio masto gamyba
Gamybos netobulumai, tokie kaip forma, dydis ir padėties nuokrypiai, gali suteikti modai papildomą impulsą, dėl ko skirtinguose k erdvės taškuose gali būti suporuoti modos ir sukurti papildomi spinduliavimo kanalai, taip sumažinant Q koeficientą. Laisvos erdvės nanofotoniniuose įrenginiuose didesnis gamybos plotas ir daugiau nuostolingų kanalų, susijusių su nanostruktūrų matricomis, apsunkina aukštų Q koeficientų pasiekimą. Nors eksperimentiniai pasiekimai parodė, kad mikrorezonatoriuose Q koeficientai siekia net 10⁹, didelio masto didelės Q filtrų gamyba dažnai yra brangi ir užima daug laiko. Tokie metodai kaip pilkųjų pustonių fotolitografija naudojami plokštelinio masto filtrų matricoms gaminti, tačiau didelių Q koeficientų pasiekimas masinėje gamyboje išlieka iššūkiu.

Kompromisas tarp našumo ir kainos
Didelės Q filtrams paprastai reikalingi sudėtingi dizainai ir didelio tikslumo gamybos procesai, kad būtų pasiektas puikus našumas, o tai žymiai padidina gamybos sąnaudas. Praktiškai reikia subalansuoti našumą ir sąnaudas. Pavyzdžiui, silicio mikroapdirbimo technologija leidžia nebrangiai gaminti derinamus rezonatorius ir filtrus žemesnių dažnių juostose. Tačiau aukštų Q koeficientų pasiekimas aukštesnių dažnių juostose vis dar nėra ištirtas. Silicio RF MEMS derinimo technologijos derinimas su ekonomiškais liejimo metodais siūlo potencialų sprendimą keičiamo mastelio ir nebrangiai gaminti didelės Q filtrus, išlaikant aukštą našumą.